~ 樣品體積LxWxH：300 x ∞ x 150 mm 500 x ∞ x 48 mm
~ 樣品尺寸 LxW：105 x 105 mm Ø 300 mm 500 x 500 mm
~ 接觸角測量范圍：0 to 180 °C，分辨率：+/- 0.1 °C
~ 表面張力測量范圍：1x10-2 to 100 mN/m；分辨率：0.1 mN/m
~ 光學系統：7-fold Zoom；視野范圍FOV 3.2 to 22.5 mm 1.6 to 11 mm diagonal；光漂離
補償；聚焦模塊；高性能的可變視野照明；自動偏離效正
~ 攝像系統：50 楨 360 or 1000 fp/s optional；Online max. 100 evaluations / second；
Video sequences duration depending on RAM；
軟件自動觸發計算和攝像
~ 軟件：6種不同的方法分析座滴形態，自動基線調整，接觸角測量范圍在 0 to 180 °C，可選
擇曲面基線。垂滴方法計算液體的表面/界面張力，錄像，程序設定，自動進樣設定，通過
Fowkes,extended Fowkes, Wu, Zismann, Owens-Wendt-Rabel, van Oss & Good, Neumann等
方法計算固體的表面自由能，濕潤性等…
~ 溫度范圍：-60 to 400 °C
~
儀器尺寸 LxWxH：380 x 620 x 610 mm 380 x 954 x 610
~ 重量：25 to 45 kg
~ 電壓：110 to 240 VAC
測量方法：
~ Sessile & Captive Drop Method staticdynamic
~ Tilting Drop Method
~ Sessile Drop Method
選件：
~ DS3201 - 手動直接進樣用于十分困難測量樣品
~ DS3210 - 軟件控制的直接進樣
~ DS3202 - The fastest solution for reproducible volumes: The manual direct jet
dosing system
~ DS3228 - PC控制的多滴定系統，*多可達8個進樣頭
~ TC40 - The peltier temperature chamber for highest demands. The KRÜSS peltier
chamber is characterized by very fast temperature changes, no
condensation problem at windows due to 2 separate innerouter
housingsmovable inner sample stage.
~ ST3270 - Both manualelectronic wafer stages are available. They can be
integrated in DSA100DSA100L.
~ TC21 - 大的溫度控制工作臺
~ 獨特的液滴觀測角的調正技術，隨時可以觀測液滴的形態，操作就象兒童游戲***樣的簡單。
~ 進樣系統的微調功能可以僅僅調整
進樣器的位置。
~ 智能化的進樣系統，樣品更換更加簡單，完全避免了樣品間相互交叉污染的危險。
~ 創新的光學結構的設計，即使很大的樣品也可以輕松地在
標準樣品臺上測量。
~ 新型的照明系統消除所有雜散光的干擾。
~ 創新的軟件設計支持用戶在任何時間都可以運行事先設定好的程序或模塊。
~ 個性化的樣品臺，隨意調整，不同的加熱/制冷工作臺，可以滿足不同條件的特殊樣品的要求。
~ 新型的 Peltier 溫控室， 自動溫度調節快速，精確。
~ 照明系統，提供強的光能量，極低的熱輻射。
~ 完全模塊設計, 可以全手動或全自動調節固體樣品的位置
~ 手動或自動測量多達8個樣品
~ 使用DSA100L，使大的樣品測量異常簡單
應用：
~ 評價表面處理程度
~ 考察粘膠特性
~ 表面純度考核
~ 紡織行業印染的*佳化選擇
~ 晶片及微電子產品的質量控制
滬公網安備31011502016460號
