供應西格瑪光機GMMUHP/GBSMU無框架鏡架_邁微信
成都邁微信是日本西格瑪光機中***區指定代理商，供應西格瑪光機光學鍍膜鏡片，調節調整鏡架，手動電動位移臺，直動平臺，旋轉平臺，角位移臺，激光光源等。以及各類平臺位移臺控制器。
沒有反射鏡支架的邊框，支架正面全部成為反射鏡。
由于基板為精密拋光的熱膨脹系數小的陶瓷（或是合成石英），能夠得到極高的面型精度和溫度穩定性。
備有適用YAG激光各種波長譜區的系列產品。
無框反射鏡是在精密拋光的陶瓷上鍍膜，與***般反射鏡的特性相比沒有差異。
限度地擴大反射鏡的有效面積，并且，具有結構緊湊的反射鏡調整機構。
反射波面不會隨溫度變化而變形，*適合于精密的光學系統。
這個產品保證鍍膜后(支架狀態)的面型精度。
具有高激光損傷閾值，強激光也可使用。
西格瑪光機（株）在2011年11月取得這個產品的（第4586110號）。
信息
基板上的安裝方法和MHG反射鏡支架***樣。
可以安裝臺柱（PST-＊＊：另售）或立柱（RO-＊＊：另售）。
注意
產品中不附有保證面型精度數據。需要保證面型精度數據文件時，需要額外文件制作費用。請至營業部門問詢。
激光等的直線偏振光射入分光鏡時，反射率或透過率隨偏振方位發生變化。需要嚴格地調整分束比為1:1時，請45度傾斜偏振光方位或使用圓偏光。
多層電解質膜的反射率波長特性隨入射光束的偏光狀態變化。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射帶譜區變窄。
技術指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。
用于45°以外的入射角度時，反射率有可能降低。
在設計波長以外的波長譜區使用時，反射率有可能降低。
共同指標
支架部分
功能說明圖
| 類型 | GMMUHP-24.4 | GMMUHP-49 GBSMU-49 |
| 可動軸數 | 3軸 | 2軸 |
| 調整范圍（°） | 擺動 | ±3 | ±2 |
| 旋轉 | ±3 | ±2 |
| 分辨率（°/周） | 擺動 | 0.74 | 0.26 |
| 旋轉 | 0.74 | 0.26 |
| 主要材質 | 黃銅 | 鋁合金 |
| 表面處理 | 超***黑鉻 | 黑色陽極氧化 |
| 質量（kg） | 0.04 | 0.16 |
| 類型 | 反射鏡 | 分光鏡 |
| 材質 | 陶瓷 | 合成石英 |
| 入射角度 | 45°±3° |
| 鍍膜后面型精度 | 反射波面 λ/10 |
| 表面質量 | 20－10 |
| 反射率 | ＞99％ | 平均50±5％ |
W3001
目錄編號
| 反射鏡類型 |
| 型號 | 適用波長 〔nm〕 | 反射鏡部形狀 〔mm〕 | 鍍膜范圍 〔mm〕 | 面型精度保證范圍 〔mm〕 | 激光損傷閾值※ 〔J/cm2〕 |
| GMMUHP-24.4-355 | 355 | 24.4×24.4×7 | 23×23 | φ20 | 8 |
| GMMUHP-24.4-532 | 532 | 24.4×24.4×7 | 23×23 | φ20 | 26.5 |
| GMMUHP-24.4-1064 | 1064 | 24.4×24.4×7 | 23×23 | φ20 | 28 |
| GMMUHP-49-355 | 355 | 49×49×8.5 | 48×48 | φ30 | 8 |
| GMMUHP-49-532 | 532 | 49×49×8.5 | 48×48 | φ30 | 26.5 |
| GMMUHP-49-1064 | 1064 | 49×49×8.5 | 48×48 | φ30 | 28 |
※激光脈沖時間10ns，重復頻率20Hz
| 分光鏡類型 |
| 型號 | 適用波長 〔nm〕 | 反射鏡部形狀 〔mm〕 | 鍍膜范圍 〔mm〕 | 面型精度保證范圍 〔mm〕 | 透過通口直徑 〔mm〕 | 激光損傷閾值※ 〔J/cm2〕 |
| GBSMU-49-VIS | 400～700 | 49×49×12 | 48×48 | φ30 | φ20 | 2.1 |
| 型號 | T | M | N |
| GMMUHP-49 | 8.5 | 21 | 30 |
| GBSMU-49 | 12 | 29.5 | 33.5 |
l
l 面型精度圖（參考數據）
面型精度測定方法
使用Zygo激光干涉儀計測
面型精度測量波長
632.8nm
保證面型精度溫度
23℃±2℃
滬公網安備31011502016460號
