德***Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統
科研/生產兼用
簡介：
PhableR 100 紫外光刻機是***套低成本的光學曝光系統，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。
| 特點： · 高效的大面積亞微米-納米圖形化設備 · 操作簡單、工作穩定，兼容科研及批量生產 · 納米周期性圖案解決方案 優勢： · 大面積圖形化設備：適用4、6、8寸襯底 · 高曝光效率：非步進式曝光，無拼接，單次全場曝光實現整片圖形化 · 高精度：光學衍射自成像原理，突破傳統曝光精度極限 · 非接觸式曝光 · 設備沒有景深限制，曝光過程無需對焦 · 雙工作模式（UV375機型）：高分辨模式（周期性納米-微米結構），***般紫外光刻模式（非周期結構） · 設備采用通用的商業光刻膠，根據客戶的圖形，提供工藝技術支持。 | 
PhableR 100革新性紫外光刻機 |
技術指標：
| 光源 | UV375nm | DUV266nm | DUV193nm |
| 分辨率 | 125nm | 75nm | 62nm |
| 周期范圍 | 250-3000nm | 150-2500nm | 125-2000nm |
| 操作方式 | 手動裝片-自動曝光 |
| 參數設置 | 觸摸屏 |
| 基片尺寸 | 4、6、8英寸（尺寸向下兼容） |
PhableR 100 晶圓***光子學結構的曝光工具
應用：
· 圖形化藍寶石襯底（PSS）
· DFB布拉格光柵
· 減反層圖形
· 顯示濾光片Color Filter
· 線柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）
· 光子晶體
· 磁性納米結構
· 太陽能光伏
· 生物傳感器
· AR、VR技術
滬公網安備31011502016460號
